二次イオン質量分析法

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二次イオン質量分析法（にじイオンしつりょうぶんせきほう、SIMS; Secondary Ion Mass Spectrometry）とは、質量分析法におけるイオン化方法の種類の一つである。特に固体の表面にビーム状のイオン（一次イオンと呼ばれる）を照射し、そのイオンと固体表面の分子・原子レベルでの衝突によって発生するイオン（二次イオンと呼ばれる）を質量分析計で検出する表面計測法である。

非常に高感度であるため、超高真空下で測定しなければならない。目的に応じて質量分析計には、二重収束型、飛行時間型、四重極型などが主に用いられる。特に飛行時間質量分析計（TOF-MS）を用いた場合には、飛行時間二次イオン質量分析法（TOF-SIMS）とも呼ばれる。

二次イオン質量分析法の測定モードには、試料を削りながら破壊的に測定するダイナミック・モード（D-SIMS）と、非破壊的に測定するスタティック・モード（S-SIMS）があり、目的に応じて使い分ける。二次イオン質量分析法からは組成、化学構造、特定科学種のサブミクロンスケールの分布、深さ方向の分布などに関する情報を得ることができる。

[編集] 関連項目

• SHRIMP