真空紫外線

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真空紫外線（しんくうしがいせん）とは電磁波の一種で、紫外線の中でもっとも波長の短い10–200 nm 付近の領域をいう。波長帯の区分方法によっては、軟X線と一部が重なることもある。英語の acuum ultra violet の頭文字をとってVUVともいう。

「真空紫外線」という呼び名は、この波長帯が酸素分子・窒素分子などの吸収帯に当たるため大気中を通過できず、真空状態でのみ伝播することによる。ただし波長と媒質によっては真空紫外線が透過することもあり、真空紫外線を使用する装置の窓にはそのような物質を使用する。これより波長が短くなるとX線となって透過力が強まり、波長の長い紫外線や可視光線となっても物質中を透過しやすくなる。

[編集] 発生方法

人工的な発生源としては、真空中でのアーク放電、シンクロトロン放射などがある。真空紫外レーザーとしてはArFエキシマレーザー(193nm)やF₂レーザー(157nm)などがある。

[編集] 用途

高エネルギー光源として、さまざまな化学反応のエネルギー源となっている。 半導体の製造工程では、回路の微細化に伴いリソグラフィのための露光光源が短波長化しており、ArFエキシマレーザーなどが使用されるようになった。

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